28纳米光刻机。

28纳米已经是目前炎国国内光刻机的顶尖水平。

在目前全球光刻机市场中，A**L、佳能以及尼康是最大的三家供应商，他们占据了全球99%的市场份额。

佳能和尼康主要生产22纳米的“低端”DUV光刻机，而A**L大部分产品都是更高端的EUV光刻机。

DUV和EUV实际区别就是光源，DUV指“深紫外线”，EUV指“极深紫外线”，听名字就能感觉到EUV技术更加牛逼。

确实也是如此，DUV光刻机的光源波长为193纳米，EUV光源波长为13.5纳米，而且EUV光源并非地球上天然存在的光线，需要特定的技术和设备才能够制造出来的。

在光源波长越短，折射率越大，能量越大的原理下，光源波长为193纳米的DUV光源一般只能实现25纳米制程，I凭借工作台模式做到了10纳米，但后续再也无法突破10纳米。

太积电也强行用DUV光源生产过第一代7纳米芯片，但是是通过DUV多重曝光实现的，不但工艺复杂，良品率低，其实上所谓的7纳米还有很大水分，太积电也是在第二代7纳米芯片的时候就全面换成EUV光源了。

也就是说，DUV光源做做28纳米、56纳米的制程还行，但涉及7纳米、5纳米，DUV几乎没戏，只能靠EUV技术。

而现在全球范围内，能生产EUV光刻机的供应商，全球只有A**L一家！

毫不夸张的说，A**L凭借EUV技术彻底垄断了全球中高端光刻机市场，根据最新一年的销售额来看，A**L的光刻机占据91%的市场份额，尼康6%，佳能仅仅3%。

凤凰集团这台产自炎国沪市微电子（**EE）的28纳米光刻机当然也只是DUV光源，不过哪怕是“低端”的DUV技术，也是非常难得了。

实际上，虽然目前沪市微电子厂已经实现28纳米光刻机量产，但一直受限于产能，每年产能也就两三台，在凤凰集团之前总共只有三家企业拿到了微电子生产的国产28纳米光刻机，凤凰算是在高领资本运作下，才顺利优先拿到28纳米光刻机。

胡来心里已经十分满足。

凤凰即将拥有了属于自己的28纳米光刻机，虽然制程不算太先进，但只要28纳米光刻机能成功安装生产，凤凰半导体就真正成为一家集设计、制造、封装测试到销售的垂直整合半导体公司！

这样的IDM模式无疑对整个凤凰集团的芯片安全都竖起了强力保障！

……

美洲国的消息开始扩散开来。

接下来的时间，网络上因为美洲国撕破脸皮的威胁禁令又一次引发了全民讨论，这一次处于旋涡之中的凤凰集团并没有再次发声。 本章未完，请点击下一页继续阅读！ 第1页/共4页